PVD真空鍍

PVD能夠實現金屬表面鍍高硬度、高耐磨的金屬陶瓷裝飾鍍層，PVD真空鍍工藝手段是利用物流過程中來沉積薄膜的技術。

電鍍

通過電鍍的產品能夠使鍍層光澤度、高品質金屬外觀，電鍍工藝手段是通過電解作用讓金屬表面附著金屬膜從而起到腐蝕的作用，能夠提高耐磨性、導電性、反光性、美觀性等。

電弧蒸發

此工藝是將被蒸發的固體金屬（靶材）置于真空腔室內，產生輝光放電后，在靶材表面運行，靶材在很小的幾個微米大小內蒸發，電弧的運動是由磁場所控制的，蒸發出的金屬離子形成的等離子體將沉積于工件表面，這些工件是在真空腔內旋轉運動，電弧制備的涂層通常被用于工具和零部件的表面涂層，電弧工藝中實現蒸發材料的高度電離，沉積涂層具有優異的附著力。

電弧技術的優點：

高沉積速率(~1-3 μm/h)

高離化率，形成結合力好，致密的涂層

靶材冷卻，涂層工件受熱較少，這樣可以在低于100°C以下沉積

可以蒸發多種成分的金屬，剩余固態靶材成分不變

陰極可以放置在任何位置（水平、垂直、上部和下部），設備設計靈活

金屬表面前處理在各種熱處理、機械加工、運輸及保管過程中，不可避免地會被氧化，產生一層厚薄不均的氧化層。同時，也容易受到各種油類污染和吸附一些其他的雜質。

油污及某些吸附物，較薄的氧化層可先后用溶劑清洗、化學處理和機械處理，或直接用化學處理。對于嚴重氧化的金屬表面，氧化層較厚，就不能直接用溶劑清洗和化學處理，而先進行機械處理。

通常經過處理后的金屬表面具有高度活性，更容易再度受到灰塵、濕氣等的污染。為此，處理后的金屬表面應盡可能快地進行膠接。