銦靶是指以銦為主要成分的濺射靶材，是一種在材料表面鍍膜過程中用于提供銦源的材料。在真空濺射鍍膜工藝中，銦靶材在高能粒子的轟擊下，銦原子被濺射出來并沉積在基底材料表面，形成所需的銦薄膜。

顯示技術領域：廣泛應用于 LCD、OLED、AMOLED 等平板顯示器件中作為透明電極，確保顯示設備既能透光顯示圖像，又能導電傳輸信號。

精銦是指純度的金屬銦，通常純度在 99.99%（4N）以上，高純度規格可達 99.9999%（6N）甚至更高.精銦是通過精煉工藝去除銦原料中的雜質（如鉛、鋅、鎘、錫等）后得到的高純度金屬，呈銀白色光澤，質地柔軟，具有良好的延展性和導電性。

半導體與電子工業（占比約 25%）：

焊料與封裝：利用銦的低熔點和延展性，作為半導體芯片的焊接材料（如倒裝焊、熱沉連接），可適應精密器件的高溫穩定性需求。

化合物半導體：與鎵、砷等元素合成 InGaAs、InP 等化合物，用于 5G 芯片、激光器、探測器（如紅外成像器件）。